Atomic layer deposition of high-κ/metal gate stack mosfet-devices on strained silicon-on-insulator substrates

C. Henkel, S. Abermann, O. Bethge, M. Reiche, E. Bertagnolli

Publikation: Beitrag in Buch oder TagungsbandVortrag mit Beitrag in TagungsbandBegutachtung

Originalspracheundefiniert/unbekannt
TitelECS Transactions
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2009

Research Field

  • Energy Conversion and Hydrogen Technologies

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