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Impact of AL, NI, and tin metal gates on ZRO<inf>2</inf>-MOS capacitors

  • S. Abermann
  • , J. Efavi
  • , A. Lugstein
  • , E. Auer
  • , H. Gottlob
  • , M. Schmidt
  • , M. Lemme
  • , E. Bertagnolli

Publikation: Beitrag in Buch oder TagungsbandVortrag mit Beitrag in TagungsbandBegutachtung

Originalspracheundefiniert/unbekannt
TitelECS Transactions
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2006

Research Field

  • Energy Conversion and Hydrogen Technologies

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