Technology and performance of InAlN/AlN/GaN HEMTs with gate insulation and current collapse suppression using ZrO<inf>2</inf> or HfO<inf>2</inf>

  • J. Kuzmik
  • , G. Pozzovivo
  • , S. Abermann
  • , J.-F. Carlin
  • , M. Gonschorek
  • , E. Feltin
  • , N. Grandjean
  • , E. Bertagnolli
  • , G. Strasser
  • , D. Pogany

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelBegutachtung

OriginalspracheEnglisch
FachzeitschriftIEEE Transactions on Electron Devices
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2008

Research Field

  • Energy Conversion and Hydrogen Technologies

Diese Publikation zitieren